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High Mobility Ambipolar MoS2 Field-Effect Transistors: Substrate and Dielectric Effects

机译:高迁移率双极mos2场效应晶体管:基板和   介电效应

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摘要

We fabricate MoS2 field effect transistors on both SiO2 and polymethylmethacrylate (PMMA) dielectrics and measure charge carrier mobility in afour-probe configuration. For multilayer MoS2 on SiO2, the mobility is 30-60cm2/Vs, relatively independent of thickness (15-90 nm), and most devicesexhibit unipolar n-type behavior. In contrast, multilayer MoS2 on PMMA showsmobility increasing with thickness, up to 470 cm2/Vs (electrons) and 480 cm2/Vs(holes) at thickness ~50 nm. The dependence of the mobility on thickness pointsto a long-range dielectric effect of the bulk MoS2 in increasing mobility.
机译:我们在SiO2和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)电介质上制造MoS2场效应晶体管,并以四探针配置测量载流子迁移率。对于SiO2上的多层MoS2,迁移率是30-60cm2 / Vs,相对独立于厚度(15-90 nm),并且大多数器件表现出单极n型行为。相反,PMMA上的多层MoS2的迁移率随厚度增加而增加,在厚度约50 nm时可达470 cm2 / Vs(电子)和480 cm2 / Vs(孔)。迁移率对厚度的依赖性指向块状MoS 2在增加的迁移率中的远距离介电效应。

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